近赤外線による加熱方式を採用！酸素濃度を測定しながらのリフロー状態の観察ができます
当製品は、近赤外線による加熱方式を採用しており、プロファイルの 条件出しが容易なリフローシミュレータです。 N2導入機構を有し、酸素濃度を測定しながらのリフロー状態の観察も 可能で、ワークの挙動を観察しながらのシミュレーションもできます。 プロファイル条件もプログラム設定により、容易に多種類変更可能です。 【特長】 ■容易なプロファイル条件出し ■N2雰囲気での測定も可能 ■N2導入機構を有する ■ワークの挙動を観察しながらシミュレーションできる ■プロファイル条件もプログラム設定により、容易に多種類変更可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【仕様】 ■加熱ステップ数：任意に可変可 ■最高使用温度：350℃ ■加熱方式：近赤外線加熱 ■冷却方式：Air又はN2による空冷方式 ■最大基板サイズ：150×150 ■炉内有效寸法：W150×D150×H95 ■電源電庄：単相200V 15A ■設備寸法：[本体］W400×L550×H400 [制御盤］W400×L400×H200 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
多様な分野の製品における製造工程で、貴重な役割を果たす加熱工程。 私たちはその技術を駆使してお客様をサポートし、新たな付加価値の創造を目指しています。 【九州日昌の均熱技術により、このような効果をお約束いたします】 ■歩留りの解消 歩留り解消により、製造コストを削減 ■設備の省スペース化 設備縮小により工場の限られたスペースを有効活用 独自の「均熱技術」を活用した各種電熱機器及び装置の設計・製作を行っています。
