揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介！
『アンラスト RC-2』は、ガラスやドライフィルムなどの対象物に 適用可能な、工業用洗浄剤です。 揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要。 フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能です。 【特長】 ■フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能 ■揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要 ■適用法令：消防法 危険物第四類第1石油類 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液 ・温度：常温 ■対象物 ・ガラス ・ドライフィルム ・その他 ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・14kg缶 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■フォトマスク洗浄剤 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
三若純薬研究所は、無機化学品の小分け・配合からスタートし、今では、 精密化学薬品などの受託製造販売、および、弊社オリジナルのレジスト剥離剤 や金属表面処理薬などを開発・製造しています。 私たちはこれまでも、そしてこれからも、安全第一、安定した高品質、 リーズナブルな価格設定、スピーディな対応を心がけ、「ものづくりの力」を 高めてまいります。