サイズ切替が容易なウエハ2サイズ兼用オートマスクアライナー。簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理、オートアライメント。
当製品は、オート一括等倍露光マスクアライメント装置です。 φ3、4インチ φ4、６インチなどの2サイズのウエハが兼用可能です。 切替作業は、非常に簡単。3つの部品を交換するだけでOK。 搬送ロボットの微調整など一切不要です。 更にフォトマスクとウエハを完全非接触で自動平行調整を行い、 製造工程における段取り替え時間を大幅に削減可能です。 超精密UVW駆動ステージを搭載し高性能画像処理を行う事で フォトマスクとウエハのアライメントを正確に行います。 ソフト、ハードコンタクトにも対応。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 【特長】 ■複数基板サイズ対応 ■段取り替えが容易 ■完全非接触でフォトマスクとウエハの平行出し&露光 ■オートアライメント機能 ■省スペース&簡単メンテナンス ■低価格、コンパクトを実現し、多品種少量生産にも好適 ■超精密UVWステージ搭載 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【主な仕様】 ■マスクサイズ：□3"～□7" ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ6", ■カセットステージ：2組 ■センタリングユニット オリフラ自動位置合わせ機能付き：1組 ■露光光源：超高圧水銀灯(250W，500W) UV-LED光源も対応可能 ■オートアライメント機能搭載(FAST社製) ■装置サイズ：(例)1200×1200×1900(本体) ■搬送方法：ダブルアームクリーンロボット(Class1対応) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
※5～6ヶ月（通常）、状況によって変動しますので、お気軽にお問い合わせください。
用途／実績例
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企業情報
フォトレジストの塗布・露光・現像装置をメインとし、両面露光装置等、フォトリソグラフィープロセス全般および関連プロセス装置の設計・製造・販売を行っております。 特に、凹凸やＶ溝のある基板または、角基板や不定形基板への均一性の高い塗布技術を有しております。さらに、高圧ジェットＮＭＰによるバリ、メタルの再付着の発生の無い剥離・リフトオフ装置を開発し、販売しております。 その他、ポリイミド・ＰＢＦ・ＯＣＤ・ＷＡＸ等各種塗布装置、高温ベーキング装置、スピンドライヤー装置等取り扱っております。 お客様の仕様・予算により装置をカスタマイズしてお作りしております。 また、各種ウェハ、基板等の販売も行っております。
