ベルト搬送方式によるウエハ表面、裏面を同時に露光可能な装置です。 fast露光モード、アライメント露光モードを設定可能。
当製品は、半自動両面同時露光装置です。 ウエハキャリアからの取り出し、搬入をベルト方式に行います。 マスクとウエハはコンタクトし、同時に露光を行います。 アライメントなしのfast露光モード、 ウエハとマスクのアライメントを主導で行うアライメント露光モードを レシピで選択。 ベルト搬送方式の特徴を生かし、fast露光モードは高タクトで処理が可能。 上下マスクの位置合わせ、マスク―ウエハの位置合わせはI.Fを同一とし 操作が煩雑になる事がありません。 また、マスクの交換も簡単に行えます。 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 【特長】 ■両面同時露光 ■fast露光モード、アライメント露光モード ■段取り替えが容易で、複数基板サイズ対応可能 ■省スペース&簡単メンテナンス ■低価格、コンパクトを実現し、多品種少量生産にも好適 ■ベルト搬送方式 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【主な仕様】 ■マスクサイズ：□5"～□7" ■ウエハサイズ：Φ4"～Φ6" ■カセットステージ：ローダー、アンローダー各2組 ■センタリングユニット オリフラ自動位置合わせ機能付き：1組 ■露光光源：超高圧水銀灯(250W，500W) UV-LED光源も対応可能 ■装置サイズ：(例)1800×1000×1900(本体) ■搬送方法：ベルト搬送方式 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
※5～6ヶ月（通常）、状況によって変動しますので、お気軽にお問い合わせください。
用途／実績例
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
フォトレジストの塗布・露光・現像装置をメインとし、両面露光装置等、フォトリソグラフィープロセス全般および関連プロセス装置の設計・製造・販売を行っております。 特に、凹凸やＶ溝のある基板または、角基板や不定形基板への均一性の高い塗布技術を有しております。さらに、高圧ジェットＮＭＰによるバリ、メタルの再付着の発生の無い剥離・リフトオフ装置を開発し、販売しております。 その他、ポリイミド・ＰＢＦ・ＯＣＤ・ＷＡＸ等各種塗布装置、高温ベーキング装置、スピンドライヤー装置等取り扱っております。 お客様の仕様・予算により装置をカスタマイズしてお作りしております。 また、各種ウェハ、基板等の販売も行っております。