電子顕微鏡観察のお悩みを解決！チャージアップ防止、粒状性・熱ダメージ軽減に絶大な効果を発揮
『オスミウム・プラズマコーター』は、「直流グロー放電による 負グロー相領域内でのプラズマ製膜法」を用いた電子顕微鏡試料用の 導電性薄膜作製装置です。 プラズマCVD法により、非晶質のオスミウム導電性薄膜(オスミウムコート)を 短時間に形成することができます。 非常に強固かつなめらかな表面の導電性薄膜が試料に対し熱ダメージを 与えることなく得られます。 【特長】 ■フルオート操作 ■オスミウム昇華室/ナフタレン昇華室の着脱が可能 ■オスミウム/ナフタレンの残量確認が可能 ■製膜時間が短い（数nm/数秒） ■アンプルは昇華室の中で割る安全構造 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【その他の特長】 ■インターロック機構 ■当社独自開発のオスミウムトラップフィルターを装着 ■環境基準をクリアし、ハイレベルな安全性を確保 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
薄膜関連装置（薄膜製膜前処理基板洗浄装置、薄膜作製装置、薄膜評価装置）の開発、製造、販売。バイオ関連分析受託。
