卓上型ナノリソグラフィ直描システム
NanoFrazor Scholarは、多くの独自の機能を備えたエントリーレベルのナノパターニングシステムです。 独自の高品質のナノパターンやデバイスを簡単に作成するためのシンプルなツールとして、学術研究グループに特に適しています。
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基本情報
NanoFrazorリソグラフィシステムは、熱走査プローブ方式のリソグラフィー技術をベースとしています。NanoFrazorのコア技術は、複雑なナノパターンの描画およびイメージングに使用される超シャープな加熱可能なプローブにあります。 加熱されたチップは、レジストの局所昇華によって任意の高解像度ナノ構造を作成します。その後リフトオフやエッチングのような標準的なパターン転送方法を適用することができます。 またプローブ先端近傍に備えられたセンサーでイメージングを行いながら、パタニングへのフィードバックとトポロジー情報を取得でき、高精度の位置合わせも可能となります。
価格帯
1000万円 ~ 5000万円
納期
用途／実績例
ナノデバイスのラピッドプロトタイピング 最小サイズ 20nm 以下 超高解像度パターニング 敏感な材料とデバイスのナノパターン化 ナノスケールの材料変換 3Dグレースケールリソグラフィー 正確なオーバーレイとスティッチング
詳細情報
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リフトオフにより形成された14nmの電極ギャップ
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MoS2 top-gate transistors with record on/off ratios of 1010. Significantly less damage and resist residues. Courtesy of Riedo group at NYU, see Zheng et al, Nat. Electronics 2019
カタログ（2）
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企業情報
ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社は、レーザー直接描画装置やマスク描画装置の開発と製造を行う独国ハイデルベルグ・インストルメンツ・ミクロテクニック社の日本法人です。日本国内にてレーザー直接描画装置の販売及び技術サービスを行っています。レーザー描画装置やマスクレスアライナーなどの製品を数多くラインナップしています。レーザーリソグラフィーのことなら、是非当社にご相談ください。