高機能ナノリソグラフィ直描システム
NanoFrazor Exploreは、多くの独自の機能を備えたスタンドアローン型ナノパターニングシステムです。 独自の高品質のナノパターンやデバイスを簡単に作成することができ、レーザーを搭載することでマイクロパターンハイブリッド高速描画を可能としております。
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基本情報
NanoFrazorリソグラフィシステムは、熱走査プローブ方式のリソグラフィー技術をベースとしています。NanoFrazorのコア技術は超シャープな加熱可能なプローブにあり、複雑なナノパターンの描画およびイメージングを可能としています。 加熱されたプローブの先端は、レジストの局所昇華によって任意の高解像度ナノ構造を作成します。その後リフトオフやエッチングのような標準的なパターン転送方法を適用することができます。 またプローブ先端近傍に備えられたセンサーでイメージングを行いながら、パタニングへのフィードバックとトポロジー情報を取得でき、高精度の位置合わせも可能となります。
価格帯
5000万円 ~ 1億円
納期
用途／実績例
ナノデバイスのラピッドプロトタイピング 最小サイズ 20nm 以下 超高解像度パターニング 敏感な材料とデバイスのナノパターン化 ナノスケールの材料変換 3Dグレースケールリソグラフィー 正確なオーバーレイとスティッチング ハイブリッドミックスアンドマッチ レーザー描画
詳細情報
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リフトオフにより形成された14nmの電極ギャップ
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MoS2 top-gate transistors with record on/off ratios of 1010. Significantly less damage and resist residues. Courtesy of Riedo group at NYU, see Zheng et al, Nat. Electronics 2019
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マーカなしのオーバーレイ a) レジストスタック内のナノワイヤー位置を検出し電極を配置 b) パターニング後のSEM写真 nanowire location (green) and draw layout on AFM image (pink). b) SEM after lift-off.
カタログ（2）
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企業情報
ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社は、レーザー直接描画装置やマスク描画装置の開発と製造を行う独国ハイデルベルグ・インストルメンツ・ミクロテクニック社の日本法人です。日本国内にてレーザー直接描画装置の販売及び技術サービスを行っています。レーザー描画装置やマスクレスアライナーなどの製品を数多くラインナップしています。レーザーリソグラフィーのことなら、是非当社にご相談ください。