酸化膜工程用ヒュームドシリカスラリー
『ILD(TM)シリーズ』は、ヒュームドシリカを用いた酸化膜CMPスラリーです。 一般的なコロイダルシリカスラリーでは実現困難な高研磨レートと スクラッチフリー・不純物低減を実現した業界標準のスラリーで、 ガラスエポキシ研磨にもご使用いただけます。 【概要】 ■低スクラッチ性能が求められる酸化膜工程研磨に好適 ■KOH/アンモニアベース ■圧倒的な不純物金属低減 ■高い機械研磨特性 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
【ラインアップ】 ■ILD3013 ・主成分：ヒュームドシリカ ・ケミカル：アンモニア ・砥粒濃度(wt%)：13.7 ・pH：10.5 ・砥粒サイズ(nm)：85 ■ILD3225 ・主成分：ヒュームドシリカ ・ケミカル：KOH ・砥粒濃度(wt%)：25.7 ・pH：11.0 ・砥粒サイズ(nm)：85 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
アンカーテクノ株式会社では、IC1000やSUBAといった国内外で極めて 高い実績を誇るCMP/研磨パッドからCMP/研磨スラリー、ワーク保持材 (テンプレート/バッキング材)、コンデショナー等、お客様の目的に合致 するご提案が幅広く可能です。 また専門スタッフによるパーティクルカウンター/TOC計/圧力分布測定/ 迅速菌検査キットなど、測定機器の販売やレンタルもございますので、 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。