ガスフローを均等にする必要があるプロセスに適した真空バルブ
『Equalizer Control Valve』は、圧力制御が可能な真空バルブです。 排気ポンプを内側に設置出来る為、省スペースに寄与し、ガスフローを 均等にする必要があるプロセスに適しています。 当社では、納期と予算を含め、ご要望に見合った特殊バルブをご提供します。 開口サイズ、圧力、使用流体、温度など、お客様のご要望をぜひお聞かせください。 【特長】 ■圧力制御が可能 ■ガスフローを均等にする必要があるプロセスに好適 ■排気ポンプを内側に設置出来る為、省スペースに寄与 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【仕様】 ■リーク量：1.0×10^-10(Pa・m3/s) ※表面処理なしの場合 ■開口サイズ：350mm ■駆動方式：Stepper motor ■シール材質：FKM ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
《IT・ハイテク産業の発展に貢献します。》 当社は創立以来、各分野において、一貫して特殊バルブの開発・生産を行ってまいりました。 おかげさまでＩＴ分野、特に半導体、ＦＰＤ（液晶、有機ＥＬパネル）、薄膜ソーラーパネル、 ハードディスクの製造に使用される当社の真空バルブはクリーンなバルブとしてユーザーの皆様から厚いご信頼をいただき、 幅広く採用されるまでに成長いたしました。 また当社は、日本で唯一のラプチャーディスクメーカーとして多くの実績を持ち、お客様から高い評価を得ています。 これからも、より高性能な商品の開発、顧客および市場のニーズに応えられる商品アイテムの充実、国内・海外での製造・販売、 アフターサービス体制の一層の強化など産業の発展に寄与できるようにグローバルに取り組んでまいります。