摩擦帯電されたセラミック微粒子の高速噴射。緻密なナノ粒子構造膜の形成に！
エアロゾル化ガスデポジション（ＡＧＤ）装置は、セラミックスの常温成膜装置です。 微粒子を密閉容器に入れてガスを導入し、エアロゾルを生成、巻き上げられた粒子は、ガスと共に搬送管を経て、ノズルより対向する基板へ噴射堆積されます。 ガス搬送過程において摩擦帯電されたセラミックス粒子の高速噴射により、 緻密なナノ粒子構造膜が形成される仕組みです。 【代表的な装置仕様】 ノズル幅＆本数：10mm 1本 基材駆動：50mm（一軸駆動） 成膜サイズ：10mm×50mm ※詳細につきましてはお気軽にお問合せください。
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基本情報
【装置仕様例1】 ノズル幅＆本数：5mm 1本 基材駆動：50mm×50mm（二軸） 成膜サイズ：55mm×50mm 【装置仕様例2】 ノズル幅＆本数：30mm 1本 基材駆動：100mm×100mm（二軸） 成膜サイズ：130mm×100mm 【装置仕様例3】 ノズル幅＆本数：5mm 2本 基材駆動：50mm×50mm（二軸） 成膜サイズ：55mm×50mm 【装置仕様例4】 ノズル幅＆本数：5mm 3本 基材駆動：100mm×100mm（二軸） 成膜サイズ：MAX105mm×100mm 【装置仕様例5】 ノズル幅＆本数：5mm 4本 基材駆動：100mm（二軸） 成膜サイズ：MAX105mm×100mm ※詳細につきましてはお気軽にお問合せください。
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企業情報
当社は、数十年の長期にわたり、ナノ粒子および微粒子のノズル噴射による 膜形成技術の研究開発を進めてきました。 エアロゾル化ガスデポジション装置をはじめ、ガスデポジション装置および ナノ粒子関連装置(カーボン系を含む)の事業を柱とし、それら装置の 製造・販売を行なっています。