機械式冷凍機を搭載したプローバーステーション
当社では、半導体デバイスの温度依存性を評価する 『極低温プローバーシステム』を取り扱っております。 冷却方式として、液体窒素冷却法・液体ヘリウムリザーバー法・ 液体ヘリウムフロー法・冷凍機法の、どの方法にも対応可能。 お客様の使用目的・仕様に合わせて設計・製作いたしますので ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【基本仕様（当社で対応できる仕様範囲）】 ■最低到達温度：4.2K以下 ■温度コントロール範囲：4.2K～450K程度 ■温度コントロール精度：設定温度に対して±0.1K ■信号取出用コネクター：BNC、SMA、TXA等 ■プローバー可動範囲：□20mmをカバー ※オプションにて磁極間測定も可能です。 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
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基本情報
【冷却方式】 ■液体窒素冷却法 ■液体ヘリウムリザーバー法 ■液体ヘリウムフロー法 ■冷凍機法（GM冷凍機、パルス管冷凍機） ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
価格帯
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企業情報
当社は、極低温実験装置・高真空装置を設計・製造しています。 主に液体窒素クライオスタットをはじめ、液体ヘリウム（LHe）クライオスタット、 GM冷凍機システム、プローバーシステムなどをご提供しております。 ご要望の際は、お気軽にお問合せください。
