マランゴニ効果を利用！パワーデバイス製造の薄ウェハの乾燥をターゲットに開発
当社の従来製品「IMD III」を使用して薄ウェハの乾燥処理を 行った場合、ウェハとキャリアを分離した際、隣のウェハ同士が 接触する問題が生じ、乾燥不良の原因となっていました。 『IMD IIID』は、純水引き下げで乾燥処理開始後、ウェハ上部が 純水面から出た直後にウェハ上部を保持。 その後、ウェハとキャリアを分離することにより、ウェハ同士の 接触を防止して、キャリアレス乾燥と同等の乾燥能力を提供できます。 【特長】 ■ウォーターマークレス乾燥 ■純水引き下げ方式によるマランゴニ乾燥 ■従来乾燥法では困難な薄ウェハの乾燥 ■IPA消費量の削減（10～20cc/1バッチ） ■3”～8”ウェハの乾燥が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【ラインアップ】 ■150IMD IIID-ASC1DMHP ■150IMD IIID-AWC2DMHP ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■Siパワーデバイス製造の乾燥 ■SiCパワーデバイス製造の乾燥 ■LSIデバイス製造の乾燥 ■Siウェハ製造の乾燥 ■SiCウェハ製造の乾燥 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
当社は、3つの事業部により構成されており、世界シェア約100％の ハードディスク用バーニッシャー装置、半導体向けテストハンドラ、 外観検査装置、各業界向け自動化装置、世界トップクラスシェアの 高発電効率太陽電池ウエハ用テクスチャリング装置、各種精密洗浄装置、 乾燥装置等を製造しています。 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。