5軸ステージ制御による3次元形状へのマスクレスフォトリソグラフィを実現！
『3次元形状レーザ露光装置』は、5軸ステージ（直進3軸、回転2軸）構成により 様々な形状へ微細パターニングが可能です。 半導体レーザによる直接露光を行いますので、メタルマスクが不要で、研究・開発の 時間短縮、予算低減へ貢献します。 また、専用変換ソフトにより2D、3D CADで制作したデータを読込できます。 【特長】 ■5軸ステージ（直進3軸、回転2軸）構成 ■様々な形状へ微細パターニングが可能 ■メタルマスクが不要で、研究・開発の時間短縮、予算低減へ貢献 ■専用変換ソフトにより2D、3D CADで制作したデータを読込可能 ■アライメント補助機により、容易な立体構造サンプルの位置合わせが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
【仕様（抜粋）】 ■光源：375nm 半導体レーザ ■最小線幅：15μm（目標5μm） ■使用対物レンズ：X2 長作動対物レンズ（x10 レンズによる対物レンズについても開発中） ■最大ワークサイズ：一辺が100mm以下の立方体 ■装置寸法：W1000×H1800×D900 ■オートフォーカス ・露光時：赤色レーザによる三角測量法 ・アライメント時：カメラ画像によるコントラスト法 ■機能：位置・角度アライメント、観察機構 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■IoT、IoH（Internet of Human）デバイス ■スマートフォン ■自動運転などのセンシング ■マイクロエレクトロニクス ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
カタログ（1）
カタログをまとめてダウンロード
企業情報
日本におけるレーザメーカの草分け。30年に及んでHeNe、半導体、YAG、CO2、ルビー等の各種レーザを開発、供給してまいりました。 最近は、振動計、変位計、レーザ直接描画装置、磁気光学特性測定装置など、レーザ応用システム商品のラインアップも増え、レーザに関わるあらゆるニーズに答えるべく、努力しております。
