基板サイズは最大φ12インチ！当社独自ノズルのCO2ラバージェットノズル使用
『CO2スプレー洗浄装置』は、真空環境での洗浄のため低露点環境で CO2洗浄ができます。 当社独自ノズルのCO2ラバージェットノズルを使用。 個体CO2粒子速度と粒子密度の可変ができ、好適な洗浄条件を提案可能です。 マイクロレンズ上のパーティクル除去やスパッタ残渣除去、濡れ性改善に ご利用いただけます。 【特長】 ■当社独自ノズル：CO2ラバージェットノズル使用 ■真空環境での洗浄 ■ダメージレスドライ洗浄が可能 ■基板サイズは最大φ12インチ ■ハンディータイプのスプレーユニット販売可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【洗浄原理】 1.化学的洗浄作用 ・液体CO2粒子の化学的特性（溶解性）を利用した有機物除去 2.物理的洗浄作用 ・個体CO2粒子の衝突による物理的ブラスト効果を利用した異物除去 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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用途／実績例
【用途】 ■CCDセンサー：マイクロレンズ上のパーティクル除去 ■MEMS：スパッタ残渣除去、濡れ性改善 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
ジャパンクリエイトは、多様化する半導体産業に高精度化・省力化・微細化に対応すべく最先端技術にチャレンジして参りました。 私たちは、ハイテクノロジーに無限の可能性を求めて、ユーザーのニーズにマッチした確かなノウハウを独自性で創造します。 自らハイレベルな技術を目指して歩み続けます。