紫外線/可視光/赤外線アプリケーション向けの光学材料
当社の『フッ化カルシウム（CaF2）』は、長年に渡って半導体製造における マイクロリソグラフィーの鍵を握る材料として使用され続けています。 エキシマレーザーの光学系の素子として標準的に用いられており、更に その特長的な性質は様々な分野のアプリケーションへ応用されています。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長（Lithotec(R) CaF2）】 ■深紫外130nm～赤外8μmの広波長域に対する高透過率 ■低い屈折率（nd=1.43384） ■低いスペクトル分散（vd=95.23） ■157m、193nm、248nmといったエキシマレーザーに対する優れたレーザー耐久性 ■高エネルギー分子や放射線への強い耐久性 ■直径420mmと大型の結晶 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
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基本情報
【ラインアップ】 ■IC Lithoタイプ：エキシマレーザー、半導体製造装置用光学部品 ■Non-Lithoタイプ：顕微鏡、測定装置、カメラ等の映像系光学部品 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■紫外線、赤外線光学装置 ■航空宇宙用の光学装置 ■顕微鏡 ■分光計 ■レーザー窓 ■エキシマレーザー ■マイクロリソグラフィー光学系 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
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企業情報
当社は、高品質な単結晶およびセラミック製光学材料の専門製造メーカーで、 半導体製造装置、光学分野、レーザー技術また放射線測定などの様々な産業に 貢献しております。 長年培ってきた知識と技術で、安定した品質の製品をお客様に供給可能です。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
