半導体や液晶などの電子材料製造プロセスにおいて、フォトレジスト、剥離剤、洗浄剤、エッチング剤などの溶剤として広く利用されています
半導体製造プロセス用洗浄剤、フォトレジスト、反射防止膜などへのご使用ニーズにおいて、脱メタル、金属除去、汚染リスク低減のご要望にお応えする薬液です。 ・金属含有量 500 ppt以下の製造実績多数有り ・品目多数、当社製品のほかご指定の化学構造もご相談ください ・受託蒸留も承ります ・品目、金属規格値、純度等ご相談下さい ・国内生産、BCP、リファイン等ご相談下さい ※カタログをダウンロードのうえ、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
日本乳化剤株式会社は、エチレンオキサイド（EO）・プロピレンオキサイド（PO）の付加重合をコア技術とし、アルコールのアルキル化及びアニオン化等の有機合成を応用して、500種類以上の製品を提供しております。小規模から大規模ロットまでスケールを問わず、EO・POモル数を調整し、配列 順序を自由に組み合わせることで、お客様にとって好適な機能を持つ製品をご提供致します 。
価格帯
納期
用途／実績例
・金属含有量 500 ppt以下の製造実績多数有り ・品目多数、当社製品のほかご指定の化学構造もご相談ください ・受託蒸留も承ります ・品目、金属規格値、純度等お気軽にご相談下さい
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企業情報
日本乳化剤株式会社は1953年の創業以来、生活環境の向上と自然環境の保全・浄化に役立つ化学製品の提供を通じて、社会の健全な発展に貢献してまいりました。 当社事業は、創業当初からの乳化技術を活かした「界面活性剤」、世界でもトップクラスの品ぞろえを誇る「グリコールエーテル」、そして地球温暖化防止に効果が期待される炭酸ガス吸収剤を用途の一つに持つ「アミン」を３本柱としています。いずれも独自技術によりカスタマイズした製品を提供していることが当社の強みです。 事業展開においては、デジタル、生活、環境を重点領域に定め、各領域で事業を強化・拡大するとともに、川下展開を重点取組に定め、製品の高機能化と組み合わせにより、お客様に新たな価値を提供してまいります。 弊社製品・開発品にご興味がありましたら、資料をダウンロードのうえ、お気軽にお問い合わせください。詳しいご説明をさせていただきます。 また、展示会（リアル展、オンライン展）の出展情報は、公式サイトおよびイプロス に掲載しております。対面、オンラインでお気軽にお問い合わせください。