均熱性に優れた面状ヒーター！
『HFC-Ox』は、C/Cコンポジット（炭素‐炭素複合材）を使用したヒーターが 石英ガラスに完全に覆われており、酸化雰囲気下で最高1,000℃までの 昇温が可能なガス分離型面状加熱ヒーターです。 主に、薄膜装置（CVD/スパッタリング等）や半導体製造装置（基板加熱/ フラッシュアニール等）への組み込みに適しています。 【特長】 ■大気中や酸化雰囲気中で1,000℃まで昇温可能 ■化学的に安定した石英ガラスを使用しており使用環境の影響を受けにくい設計 ■コンタミの発生が極めて少なくクリーンな状態で使用可能 ■ヒーターに用いるC/Cコンポジット素材は熱容量が小さく振動や衝撃及び サーマルショックに強く速やかな昇温及び降温が可能 ■スペースを取らないコンパクトな設計 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【仕様】 ■最高使用温度：1,000℃ ■使用雰囲気：大気/真空/ガス ■試料面状均熱性：1,000℃+5℃ （試料面状均熱性は環境により左右されますので絶対値ではございません。） ■冷却方法：水冷式 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■薄膜装置（CVD/スパッタリング等）への組み込み ■半導体製造装置（基板加熱/フラッシュアニール等）への組み込み ■その他多目的に使用可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
当社では、800℃から2,500℃を超える超高温領域で使用されるヒーターの 製造を得意としています。 新素材の研究開発、レンズや半導体の製造、原子力や航空宇宙分野といった 極限環境に至るまで、様々なフィールドでご活用いただいております。 これからも、私たちの知見を最大限に活かし、お客様のニーズに適した製品を ご提案して参ります。