カセットに合わせ設計・製作！純水高圧洗浄＋温風乾燥を行う自動洗浄装置
当社が取り扱う、『PDP向けカセット洗浄装置』をご紹介します。 PDP用基板を搬送するカセットを温水高圧シャワー⇒液切り⇒温風乾燥させる 自動洗浄装置で、カセットに合わせ設計・製作致します。 処理方法は純水高圧洗浄＋温風乾燥となっております。 【主な仕様】 ■被加熱物：PDPカセット（2800W×4700D×1500H）重量：1000kg ■処理方法：純水高圧洗浄＋温風乾燥 ■処理速度：100mm/s（Tact Time：28min） ■加熱条件：100℃±5℃ ■パスライン：FL+2400 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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【実績】 ■FPD：G3、G6、G8ガラス基板用カセット ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
株式会社ダン科学は、特にクリーンテクノロジーを中心とした洗浄技術・ 清浄技術・計測技術を核として、幅広い角度から未来を見つめ、創業以来の 開発魂を生かした新製品を作り続けています。 超洗浄装置・空気清浄装置・真空装置の製造から検査までの一貫作業を 清浄環境の中で行っております。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。