強い酸化作用を利用！照射条件を変えてVUV光を照射したときの膜質について検討
比較的低温の熱処理でシリカ膜を得る方法として、ペルヒドロポリシラザン等の セラミック前駆体ポリマーを大気中あるいは水蒸気中において450℃程度の温度で 焼成する方法が報告されています。 本研究は、TMOSやTEOSと異なりOを含まないPHPSを低温でシリカへ転化させるために、 酸素の活性種における強い酸化作用を利用することを目的としました。 そこで、薄膜形成時の照射雰囲気における酸素濃度の影響や、光子エネルギーに よる結合切断の必要性を調べるために、PHPS溶液を用いたスピンコーティング膜に、 照射条件を変えてVUV光を照射したときの膜質について検討しました。 【掲載内容】 ■緒言 ■実験 ■結果と考察 ■結論 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
株式会社クォークテクノロジーは最先端の光応用技術を利用した各種産業用設備機器の製造販売を行っております。 真空紫外及びUV-LED光源の開発により、半導体製造技術を始め、液晶、PDPからフィルム、ELなどの新規ディスプレイ、各種電子材料及び電子機器の製造技術に導入させていただいております。 そのほか、医療や社会的課題であります廃棄物・環境対策機器の需要に対しても研究開発を計画しております。 あらゆる物質は原子、核子そして「クォーク」から成り立っております。 私たちクォークテクノロジーは、光を研究し産業応用技術へのチャレンジを続けてまいります。