「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」を利用！光CVD法の製膜速度についてご紹介
金属や高分子材料の表面に薄膜を製膜することにより、材料表面の 機械的性質、熱的性質、化学的性質、電気的性質をコントロールする ことができます。 この表面改質に用いる薄膜の製膜方法には、真空蒸着法やPVD法、 プラズマCVD法など、様々な方法を採用。今後とも新たな製膜方法の 探索や開発が続けられていくものと考えられます。 そこで当資料では、「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」を 利用した薄膜製造プロセスの可能性について、検討を行った結果を ご紹介しております。 【掲載内容】 ■はじめに ■「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」を用いた光CVD法の製膜速度 ■おわりに ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
株式会社クォークテクノロジーは最先端の光応用技術を利用した各種産業用設備機器の製造販売を行っております。 真空紫外及びUV-LED光源の開発により、半導体製造技術を始め、液晶、PDPからフィルム、ELなどの新規ディスプレイ、各種電子材料及び電子機器の製造技術に導入させていただいております。 そのほか、医療や社会的課題であります廃棄物・環境対策機器の需要に対しても研究開発を計画しております。 あらゆる物質は原子、核子そして「クォーク」から成り立っております。 私たちクォークテクノロジーは、光を研究し産業応用技術へのチャレンジを続けてまいります。