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半導体製造プロセスの微量分析に活躍するイオンクロマトグラフィー

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最終更新日:2025年11月20日

サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社/Thermo Fisher Scientific K.K.
サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社/Thermo Fisher Scientific K.K.
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半導体製造プロセスに関わる全ての方へ 迅速にプロセス汚染を特定する高い分離性能、確立された手法による分析事例をご紹介

半導体製造プロセスや完成したデバイスにとって、イオン汚染は腐食、浸食、短絡の原因となる恐れがあるため、大きな懸念です。 イオンクロマトグラフィー(IC)は、半導体業界におけるさまざまなプロセス汚染物質の微量成分と、主要成分を迅速に測定できる効率的な分析手法です。当社のイオンクロマトグラフィーシステムがどのように活用できるかをご紹介いたします。 ※詳細はPDF資料をダウンロードいただくかお気軽にお問い合わせください。

    その他計測・記録・測定器分析機器・装置
P_IC244_A2102OB_半導体製造分野における分析-イオンクロマトグラフィーアプリケーション概要集_ページ_01.jpg

半導体製造プロセスの微量分析に活躍するイオンクロマトグラフィー

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基本情報

Thermo Scientific Dionex イオンクロマトグラフィーシステムは、自動溶離液生成(EG)、高圧(HPIC)、キャピラリー対応、4 μmカラムなどの革新的な機能を備え、高品質な結果を迅速にご提供いたします。

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用途/実績例

・溶離液ジェネレーターを使用した大量直接注入による高純度水に含まれる微量陰イオンの測定 ・マトリックス除去、濃縮を使用した有機溶媒に含まれる微量陰イオンの測定 ・試薬グレードの酸、塩基、塩、有機溶媒に含まれる微量遷移金属の測定 ・酸性銅めっき浴に含まれる塩化物の測定 ・電子部品の抽出物に含まれる微量陰イオン汚染の監視 ・燃焼イオンクロマトグラフィーを使用したポリエチレン材料に含まれる塩素、臭素、硫黄の測定

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半導体製造プロセスの微量分析に貢献する イオンクロマトグラフィーメソッド

半導体製造プロセスの微量分析に貢献する イオンクロマトグラフィーメソッド

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イオンクロマトグラフ『Dionex ICS-6000』

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イオンクロマトグラフ 『Dionex Integrion RFICシステム』

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サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社/Thermo

サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社/Thermo Fisher Scientific K.K.

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サーモフィッシャーサイエンティフィック インコーポレイテッドの日本法人である、サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社は、総合システム分析機器およびバイオ関連機器、研究用試薬などの販売会社です。日本国内では横浜、東京、大阪、福岡、名古屋に拠点を持ち、質量分析計をはじめとする各種分析機器、各種バイオ関連機器、計測器、医療機器、ラボ用ソフトウエア、研究用試薬を取り扱っています。

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