Global High-k And CVD ALD Metal Precursors Market
High-kおよびCVD・ALD用金属前駆体の世界市場規模は、2028年までに7億4,000万米ドルに達し、予測期間中にCAGR 6.3%の市場成長率で上昇すると予測されています。 ALDは、半導体デバイスの製造において重要なステップであり、ナノ材料の合成のための武器となるツールです。高い誘電率を持つ材料は、迅速なデータアクセスと保存のために利用されます。ALDはオングストロームレベルの膜厚制御が可能であることに加え、アスペクト比の大きな構造でも優れた成膜が可能です。Al2O3、HfO2、Ta2O5、High-kゲート酸化物、DRAM用ZrO2、電極・配線用窒化物などの高誘電率材料からなる薄膜は、ALDプロセスで製造されています。 ALD（原子層堆積法）は、CVD（化学気相蒸着）技術のサブカテゴリーで、薄膜の製造に使用されます。ALDプロセスは、3D NAND、セルフアラインパターニング、FinFETなどの様々なアプリケーションで利用される単層の均一な膜を形成するために、HfやSiなどの前駆体を共注入して多成分の薄膜を蒸着するために使用されます。
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基本情報
出版日: 2022年10月31日 発行: KBV Research ページ情報: 英文 112 Pages 目次 第1章 市場の範囲と調査手法 第2章 市場概要 第3章 High-kおよびCVD・ALD用金属前駆体の世界市場：技術別 第4章 High-kおよびCVD・ALD用金属前駆体の世界市場：地域別 第5章 企業プロファイル ※当レポートの目次、価格は掲載当時のものです。最新情報については当社までお問合せください。
価格情報
価格(税別)：PDF (Single User License) USD 3,600 より ※調査会社(発行元)と同一の価格(米ドル：USD、英ポンド：GBP、ユーロ：EUR)を、ご購入日の銀行送金レートにて円換算してご請求させていただきます。レートにより円価格が変動するため、社内処理用にお見積書をご希望に応じて発行しております。
価格帯
50万円 ~ 100万円
納期
即日
用途／実績例
市場調査レポートは、海外の調査出版会社が市場・技術動向の調査・分析を行い、市場規模やトレンドについて体系的に記述した情報資料です。 市場動向分析、将来予測など定量データに加えて、各社の戦略や参入企業プロファイルなどについても記載されており、海外市場や新技術の調査の一環としてお客様にご活用いただいております。
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企業情報
世界5カ国に拠点を持ち、200社以上の調査会社との代理店契約にもとづき、海外の市場情報を提供する会社です。 お客様の情報ニーズに的確にお応えする調査資料の提案や個別調査など、総合的な情報サービスを提供しています。 お客様の意思決定を支援し、事業展開に寄与できる最適情報をタイムリーに提供、各業界・産業界の活性化に「情報」というフェイズから貢献します。 ※2020年12月24日に東京証券取引所へ上場いたしました。（東証スタンダード市場：4171）