超高度印刷品質、高解像度、最新TopDot plate 技術のニーズにマッチしたeCell-HD 超高精細レーザー彫刻技術。
より高品質のフレキソ印刷に適したハニカム６０°セルパターンをベースに開発。このセルを引き延ばしてデザインされCAE社の特許である特殊粉体を用いたブラックパールセラミックコ－ティング技術を適応し実用化されました。このハイテクは高品質の印刷とインクの沈着が減少し、テフロンコーティングのような働きをします。つまり、転写効率が上がり、より効果的にインクを転写し、カラーマッチングに適した量のインクを転写することができるのです。eCellHD 超高精細レーザー彫刻技術には以下の利得があります。 1.インク転移効率の向上 2.高線数とベタ印刷のつり合い 3.ドットゲインの低減 4.安定したセルからのインク転移量 5.高線数でも得られる安定した濃度とコントラスト 6.クリーンでシャープなハイライトと中間トーンの再現 7.飛散するインクの減少 8.CTP、NX コダックプレート、フラット トップ ドット等との適合性 9.出荷からユーザーの手に完全な状態で到着するまでの工程を保証するトラッキング サービス。
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基本情報
セラミック アニロックスの常識を覆す新技術採用 CAE が開発したブラックパールセラミックコ－ティングアニロックス はセラミック アニロックスについての常識論を根本的に覆す事になる特許技術つまりeCell-HD 超高精細レーザー彫刻技術です。このコーティング プロセスは、CAE 社が標準的なプラズマコーティングのヘッドを独自 の設計によって改良し、セラミック溶射と BPCC のプロセスを完全に一体化した自動ロボットシステムによってセラミックオペレーターの熟練度に左右されない完璧なセル彫刻によるパターンを形成することが約束されます。 表面硬度は通常アニロックスのセラミックコーティングの場合ビッカース硬度が 1100 を下回るのは柔らか過ぎて不適とされ、反対に 1300 を超える硬度になるとセラミックの物理的特性が変化し、ややもろくなると考えられています。気孔率（％）はアニロックスロ－ル・スリ－ブの表面気孔率の望ましい目標値はアプリケーションによって0.5～1.0％と考えられております。このロックスは表面硬度1200～1350、気孔率0.5～1.0％とまさに理想的な領域で製造されています。
価格帯
納期
用途／実績例
アニロックスローラー、ユーザーでのフレキソ印刷におけるインクマネージメントやプレートデザイン、ドクターブレードなど、最新の技術情報提供
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企業情報
常に世界の最先端を行く情報と技術と製品をお届けすることを心がけています。 主に英・独・米国を輸入先として、 化学・医薬品・化粧品・食品、また 印刷・紙フィルム加工 に関連した産業機器をお取り扱いしております。