熱によるクラックの発生が無い!長時間使用してもパーティクルは発生しません!
当社は、『半導体クニマイト加工』を行っております。 腐食系ガスを使用している半導体製造装置内で発生するパーティクル量の 削減に効果があります。 パーティクルの発生原因の一つに、プラズマからの熱影響でクラックが 発生し、そこから腐食が進行することにより、パーティクルが発生する ことが知られています。 「クニマイト」は、熱によるクラックの発生が無いため、プラズマエッチング 装置内で長時間使用してもパーティクルは発生しません。 【特長】 ■パーティクル量の削減に効果がある ■熱によるクラックの発生が無い ■プラズマエッチング装置内で長時間使用してもパーティクルは発生しない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【パーティクルの発生原因】 ■プラズマからの熱影響でクラックが発生 ■腐食が進行 ■パーティクルが発生 →当加工でパーティクル量の削減可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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納期
用途/実績例
■ 半導体製造装置等 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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中国電化工業株式会社は、山口から未来のテクノロジーに挑戦するグローバルカンパニーです。 アルマイトを始めとする金属表面処理を行っています。 独自の技術で、半導体製造装置に使用されるアルミニウムへの表面処理を得意としています。 常にカーボンニュートラルを意識し、汚染防止に最善を尽くし、地球環境の保護・保全に努めています。