物理蒸着(PVD)プラズマ源以外に、様々な化学的気相成長(CVD)プラズマ源を提供！
『リニアPECVDプラズマ源』は、標準的な静電容量結合プラズマ電極に類似した 製品です。 インラインダイナミックモードで動作しており、基板、キャリア、または ウェブは絶えず電極を通過し、連続的に製膜されています。 CCP CVDを用いる静止モードで大型の基板を均一に製膜するという機械的、 電気的な大規模作業が求められる場合であっても、リニアPECVDは 空間パラメーターを一次元のタスクに削減。より高い製膜速度獲得のため、 VHF周波数による製膜が想定される場合でも、巧みに取り扱うことができます。 【特長】 ■連続移動する基板には容量結合ダイナミックPECVD ■連続供給シート、キャリア、またはロール・ツー・ロールプロセス ■側面に統合されたガス分布システム ■組込まれたプロセスガス排気システム ■自由な運転姿勢：上向き、下向き、垂直 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【メリット(抜粋)】 ■さまざまなCCP CVDプロセスのための、スケーリング可能な高スループットオプション ■様々な種類の基板に高速連続製膜 ■優れた膜厚均一性を実現 ■RFまたはVHFでの大面積製膜が可能 ■様々な種類の装置構成および材料に対して、長いキャンペーン期間を達成 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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納期
用途／実績例
【用途】 ■ガス分配システム ■ガス排気システム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
当社は、東京にあり、ここを中核としてVON ARDENNEの販売活動、 戦略事業展開のサポートを行っております。 また、当社のサービスエンジニアが日本顧客の装置をサポート。 これまで建材ガラス製膜システム、ロール・ツー・ロールウェブコーター、 太陽光電池スパッタ装置、電子ビームシステムを設置してまいりました。 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。