納入後のプロセスサポート、改造、メンテナンスまで対応!ステンレス製真空装置
当社で取り扱う『実験用高真空装置』をご紹介いたします。 チャンバー材質はステンレスで、チャンバー容量は約26.5L。到達真空度は 1×10-4Pa以下です。 当社では実験装置から生産装置まで、お客様のご要望、ご予算に合わせて 装置を設計、製造いたします。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【仕様】 ■チャンバー材質:ステンレス製 ■チャンバーサイズ:幅400mm×奥行290mm×高さ340mm ■チャンバー容量:約26.5L ■到達真空度:1×10-4Pa以下 ■真空ポンプ:ロータリーポンプ+ターボ分子ポンプ ■制御/操作:手動(オプションで自動可) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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当社では、CVD、スパッタ、蒸着などの成膜装置から大気圧プラズマ、 加熱/乾燥炉など真空/大気圧問わず実験装置から生産装置まで、お客様の 要望に合わせて装置を設計、製造致します。 また、CVD法の一種であるプラズマCVD法によりDLC膜を生成します。 a-SiCやSiOxといったSi系膜の作成も可能です。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。