高い耐摩耗性！表面電気抵抗のコントロールが可能な保護膜をご紹介
『ASD』は、半導体産業にて主として問題となる静電放電を 防止するための保護膜です。 「E-chucks」をはじめ「Wafer handler」や「Wafer Stages」 といった用途で使用可能。 また、基板への優れた密着性を有しています。ご用命の際は、 お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■表面電気抵抗のコントロールが可能 ■基板への優れた密着性 ■室温成膜 ■超低摩擦係数 ■高い耐摩耗性 ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【仕様】 ■膜厚：～10nm ■電気抵抗：～105Ωcm ■成膜温度：150℃以下 ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■E-chucks ■Wafer handler ■Wafer Stages ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
弊社の開発技術は国際特許を取得し社会的にも大きな役割を担っています。 FCVA方式によるスーパーDLC（水素基フリーのta-C膜）（*2）は、 既存のPVD方式やCVD方式により生成されるDLC膜と比較し全く異なるプロセスで成膜されております。 そのほか金属とプラスチックとの離型性に優れた複合金属膜「Micc膜(*3)」があります。 FCVA方式により生成されるコーティング膜は、現在 ハードディスク産業、 精密機械産業、半導体産業などの分野で急速に採用されており、 今後、自動車産業、ナノインプリト産業や生体材料分野への展開が期待されています。