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除染ガス発生装置『steriXcure』

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最終更新日:2024年10月10日

水戸工業株式会社
水戸工業株式会社
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養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染受託も受付中

『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き取り作業が不要で、施設の稼働停止を抑制可能 ■メーカーによるBI評価試験でSAL=10^-6以下を達成 ■浮遊する病原体を空気と一緒に吸引しHEPAフィルターで捕集 ■電子機器などを除染可能 ★この度、当社では本製品を使用した除染受託を開始いたしました。  部屋、装置、ダクト内などの除染でお困りの方はご連絡ください。 ※製品について、詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

    その他 ガス発生装置
steriXcure_bnr_20241010.jpg

除染ガス発生装置『steriXcure』

steriXcure_bnr_20241010.jpg
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基本情報

【使用にあたって】 本製品で除染を行うには、別途、密閉された空間(パスルームや大型チャンバー等)並びに エアレーションシステムが必要になります。 【製品仕様】 メタノール気化量:3.0~7.0mL/min(typ4.5mL/min)@125℃ 供給AIR:3~10L/min(typ6.5L/min):シリカゲルA600+B300g メタノール供給量:5~15mL/m3(typ10mL)@室温 ガス発生所要時間:容積100m3:180~270分(容積、室分割により複数台) 循環除染ユニット:処理能力180~40CMH 循環除染(HEPA仕様):処理能力60~180CMH 電源:AC100V 50/60Hz 外形寸法:W420×D480×H1200mm ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

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気相式の核酸分解可能な技術による空間除染システム 除染ガス発生装置steriXcure

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水戸工業株式会社は、自動車から重電機、重機械や建設機械等、多岐に渡る分野で、製品への部品の供給・製造現場での生産サポートを行っております。新しい商品や設備・装置をお客様と一緒になり創り出して、ものつくりの効率化・高度化に取組んでおります。 新分野では、ライフサイエンス関係のnL分注機、スフェロイド作成、分注、抽出装置、マイクロアレイ、DNA・RNA除染装置等を販売しております。 お客様のニーズに合わせた独自商品や 困っている問題を一緒に考え、課題を解決する商品を開発しております。ご要望の際は、お気軽にお問い合わせ下さい。

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