パターンは感光性材料に記録される！マスクやスキャンプロセスの必要がない
『干渉リソグラフィ』は、パラレル工程(2本のレーザー光同士の干渉)により 広範囲においてマイクロ構造を形成できる工法です。 スプリッタで分割したUVレーザを拡大・露光し、干渉縞を形成。 また、基板を回転させてレーザの干渉を調整することで、 形成したいパターンの形を変化させることができるため、 マスクやスキャンプロセスの必要がありません。 【特長】 ■パラレル工程により広範囲においてマイクロ構造を形成 ■スプリッタで分割したUVレーザを拡大・露光し、干渉縞を形成 ■パターンは感光性材料に記録される ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
当社は機能性フィルムの開発・加工会社として1995年にシンガポールに 設立され、高度な専門性とグローバルネットワークを駆使し、 イノベーティブなソリューションをご提供しております。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。