マイナス温度からの水素分析！ ～1700℃の高温測定可能！
高周波加熱型昇温脱離分析装置IH-TDS1700は、超高真空中で試料を電磁誘導加熱することにより、試料から脱離する分子を四重極質量分析計（QMS）でリアルタイム観測する分析装置です。超高真空であるためバックグラウンドが低く高感度な測定が可能です。大気や発生ガスなどによる副反応の影響も大幅に抑えられているため 理想的な状態で試料からの脱離分子を観測することができます。 加熱効率の良い金属サンプルの場合、1700℃以上の加熱が可能です。また、鋼鉄材料の水素脆化因子となる鋼中拡散性水素の低温TDS測定も可能です。 装置本体の制御はPLC(Programmable Logic Controller)により自動で行われ、インターフェースにタッチパネルを採用しております。
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基本情報
・試料サイズ：直径20mm×長さ40mm ・試料形状：特に制約無し ・感度：脱離速度1x10^11Ar/s(at S/N=3) ・検出器：四重極質量分析計（QMS) 検出範囲 m/z1～199 質量分解能 (M/△M)≧M ・冷却トラップ(オプション)：液体窒素フロー式若しくはヘリウムガスクローズドサイクル式 ※液体窒素フロー式の場合、液体窒素自動供給装置及び液体窒素容器を付加することも可(オプション) ・加熱方式：高周波誘導加熱 試料加熱チャンバ 加熱源 高周波電源（周波数45kHz） (分析チャンバ) ※電波法により総務省通信局に対する高周波利用設備設置の許可申請が必要です ・温度検出器：熱電対（試料表面接触） 及び 放射温度計（180~2000℃） ・到達圧力(分析チャンバ)：1×10-6 Pa以下 加熱制御 制御温度範囲 低温モード：－50～600℃，高温モード：100℃～1700℃
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企業情報
電子科学株式会社は、依頼頂いた分析装置を形にする会社です。当社では、室温から1400℃まで超高真空でクリーンなサンプル加熱が可能な昇温脱離分析装置をはじめ、高周波加熱型昇温脱離分析装置や、低温昇温脱離水素分析装置などの分析装置を多数取り扱っており、装置を導入いただいたユーザー様に対して、各種消耗品を販売しています。また、メンテナンスやオーバーホールのご用命も承りますので、お気軽にお問い合わせ下さい。