特許出願中の供給機構は、摩耗シールを含まず、経年劣化のない、安定したスムーズな粉流を実現します。
G4は、HVOF、HVAF、プラズマ、コールドスプレー、レーザークラッディングなどの溶射プロセスやその他の産業用アプリケーション用に設計された重量式粉末供給装置です。設定された供給量を自動的に維持します。
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基本情報
フローレート：1-600g/min 最大使用圧力：1.03MPa(150PSI) ホッパー容量：5L or 10L キャリアガス:エアー・窒素・アルゴン・その他の不燃性ガス
価格帯
1000万円 ~ 5000万円
納期
用途／実績例
HVOF、HVAF、プラズマ、コールドスプレー、レーザークラッディング その他産業用装置向け
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企業情報
日本をはじめ、世界の様々な地域で始まった大気汚染に端を発する 環境問題は、やがて世界共通の解決すべき課題となりました。 これまでの世界を挙げた様々な取り組みにより、私たちは美しい 地球を取り戻しつつあります。そして現在、国際社会は環境問題を 包括して含んだ形でSDGsを掲げ「地球上の誰一人として取り残さない」 という誓いを立てました。 私たちは、さまざまな生命や暮らしの基盤である地球のために環境 配慮型ソリューションを創造することで、SDGsに取り組み地球の 未来に貢献したいと考えています。