半導体グレードの高クリーンなオゾン水を生成
『ゴア(R) オゾネーションモジュール』は、 高清浄度・無気泡・高オゾン水濃度を可能にする半導体および電子機器製造プロセス用オゾン水生成モジュールです。 延伸多孔質PTFEメンブレンで構成された当製品は最高耐水圧0.40MPaを保持します。 また200mg/Lまでの高濃度オゾン水を生成することができます。 【特長】 ■無気泡(バブルフリー)で、最高200mg/L濃度の高清浄度オゾン水を生成 ■ePTFEメンブレン(チューブ)によるパーティクルろ過 ■疎水性多孔質メンブレン技術により0.40MPaまでの高い耐水圧を実現 ■高濃度オゾン水を連続安定生成可能 ■オゾン水の流量と濃度調整が容易 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【ラインアップ】 ■GN-142-300 ■GN-142-650 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■シリコンウエハーの製造 ■ロジック/メモリー半導体の製造 ■フラットパネルディスプレイ(LED/OLED/QOLED)の製造 ■フォトマスク ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
ゴアは、業界に変革をもたらすことで人々の生活の向上に取り組む材料科学のグローバル企業です。1958年の創業以来、宇宙空間から世界最高峰の山頂、さらには人間の体内まで、厳しい環境における複雑な技術的課題の解決に寄与してきました。ゴアはチームワークを大切にする企業文化を持つことで知られており、13,000名を超えるアソシエート（社員）を擁し、年間48億ドルの収益を上げています。 ※日本ゴア合同会社は、W. L. Gore & Associates の日本法人です。
