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卓上オゾン排気ドラフト

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OZDRL 大排気風量タイプ

最終更新日:2023年08月29日

株式会社エキシマ 横浜ラボ
株式会社エキシマ 横浜ラボ
  • 公式サイト

卓上ドラフト内にUV/O3 装置やプラズマ装置を設置することで、オゾンガスを局所排気、脱臭、分解、排気します。

装置のサイズや排気オゾン濃度や必要排気風量に応じたカスタム仕様、受注製作品。 詳細お問い合わせください。

    その他理化学機器
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卓上オゾン排気ドラフト

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OZFHD11.jpg
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基本情報

環境仕様 ・ 設置環境温度 1515°以上6060°以下 ・ 入り側オゾン濃度 1000ppm 以下。※ ・ 流入ガスは結露無きドライガスの事。 ・ 排気配管部材は耐腐食性部材を使用の事。 ・ 作業環境の換気は適切に行ってください。 ・ 設置場所は振動無きこと 使用上の注意 ・本製品はオゾンガスの分解用です。下記のガスの混合は燃焼・爆発もしくは触媒毒の危険性がありますので絶対に避けてください。 ・ 可燃性ガス、シラン系ガス、CVD 排ガス等 ・ 金属化合物等が含まれるガス(Si,P,As,Hg,Pb 等の化

価格帯

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用途/実績例

UVO3洗浄改質装置、プラズマ洗浄改質装置などから排気や漏洩されるオゾンを卓上局所排気します。

詳細情報

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    卓上オゾン排気ドラフト 中風量タイプ Model OZDRM

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オゾン分解装置 中、大風量対応

オゾン分解装置 中、大風量対応

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当社は長年の経験と豊富な実績に基づきエキシマUV応用技術メーカーとして企業、研究機関、大学等のさまざまなニーズに最新のエキシマ表面処理を供給いたします。 ユーザーの立場に立った仕様や予算に応じた設計製作する専門メーカーです。 エキシマUV洗浄表面改質処理と表面評価用接触角計は弊社ご相談ください。

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