ニッケルイオンを還元し続けることで膜厚が増量！めっき被膜の均一性について解説
無電解ニッケルめっきが使用される大きな理由の1つにめっき被膜(膜厚)の 均一性があります。 その形状により電流密度が高くなる箇所(角・エッジ部)にめっき被膜が生成されやすい 電気めっきと異なり、めっき液と被めっき物(素材)の還元反応を利用し、被めっき物の 表面にニッケル被膜を生成させるため無電解ニッケルめっきはめっき液と接触(浸漬)する 箇所に均一にめっき被膜が生成されます。 原理としてめっき液に被めっき物を浸漬した時、めっき液内の還元剤である 次亜リン酸塩が酸化され亜リン酸塩となり、その時に電子を放出することにより、 めっき液内のニッケルイオンを還元し被めっき物の表面にニッケル被膜として析出します。 ※コラムの詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
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