フォトマスクが不要！100nm以下の超微細パターンの形成が可能です
当社では、微細加工の受託サービスとして「電子ビーム(EB)描画加工」を 行っております。 EB描画はその名の通り、フォトマスクを用いることなく、 デバイスパターンを直接描画するマスクレス露光技術です。 BE描画に精通したエンジニアが丁寧にヒアリングし、 必要に応じて前後のプロセスも含めて提案させていただきます。 【特長】 ■フォトマスクが不要 ■デバイスパターンの変更が容易 ■100nm以下の超微細パターンの形成が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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株式会社FKDファクトリはお客様のアイデアを形にするお手伝いをいたします。 「新しい構造のデバイスを作りたい」 「研究ステージが進み、実験機器や材料を新規に検討したい」 「独自に装置を開発して製品化を目指したい」 ふと思いついたアイデアに、豊富な経験と独自の視点から具体的な 方向性をご提案させて頂きます。 不自由なことは何もありません。自由な発想で先端の研究と モノ作りを支援いたします。