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SImage AUTO 300 wafer

最終更新日:2024年02月13日

株式会社エキシマ 横浜ラボ
株式会社エキシマ 横浜ラボ
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300mmウェハー対応自動接触角計

ステージ治具にはPEEKを採用。小径ウェハーにも対応。高画質500万画素メガピクセルズームレンズ採用。トレーサブル校正対応、日本製。Windows11PC別売。

    その他計測・記録・測定器
SImage

自動接触角計 SImage AUTO 300 wafer

SImage AUTO 300Wafer2.jpg
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基本情報

ModelSimage AUTO 300 wafer 対象サンプルサイズaxφ300mm, 測定範囲0<θ< 180 ° 角度分解能0.1° 接触角解析公式接線法(Auto mode) θ/2 法(Manual mode) 拡張収縮法 工業規格ASTM D724,D5725,D5946 ISO 15989 ISO書類(オプション)校正証明書、検査成績書、トレーサビリティ体系図 稼働域X , Z ステージ カメラ光学系500万画素カメラ、メガピクセルズームレンズ 対応OSWindows 11,10 ※PC別売 経時変化計測約15fps ※PC性能に依存 ステージワークホルダーPEEK ホルダー 標準ディスペンサー2.5-10μL micrometer head control 電源AC100V50/60Hz 2WAC100V50/60Hz 2W 付属品接触角解析ソフト、USBドングル、取扱説明書、検査成績書 Optionsオートディスペンサー、シリンジ針各種 表面自由エネルギー解析ソフト 等 標準価格(税、送料別)ask

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用途/実績例

半導体ウェハーの接触角計測  小径ウェハーにも対応

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当社は長年の経験と豊富な実績に基づきエキシマUV応用技術メーカーとして企業、研究機関、大学等のさまざまなニーズに最新のエキシマ表面処理を供給いたします。 ユーザーの立場に立った仕様や予算に応じた設計製作する専門メーカーです。 エキシマUV洗浄表面改質処理と表面評価用接触角計は弊社ご相談ください。

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