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最終更新日:2025年05月29日

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リーク電流の発生や絶縁抵抗性の悪化に直接的に起因!洗浄ノウハウをご紹介

はんだを使用した接合工程において優れた無洗浄技術が確立している 日本市場ではありますが、 様々な課題が生じるケースが増加しており、 年々洗浄の需要は高まっています。 増加し続ける洗浄需要の背景の一つとして、イオン残渣への対応が あげられます。 イオン残渣は、基本的に視認が難しい残渣であり、時間の経過とともに さまざまな形態に変化する可能性があり、リーク電流の発生や絶縁抵抗性の 悪化に直接的に起因します。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 ※PDF資料はイオン残渣の課題と分析方法について解説した技術資料です。

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【共同研究】活性剤の洗浄性

活性剤の洗浄性 低スタンドオフ部の残留性検証【共同研究】

【共同研究】活性剤の洗浄性 低スタンドオフ部の残留性検証.png
【共同研究】活性剤の洗浄性 低スタンドオフ部の残留性検証.png 活性剤(イオン成分)の洗浄性 低スタンドオフ部の残留性検証2.JPG 活性剤(イオン成分)の洗浄性 低スタンドオフ部の残留性検証3.JPG 活性剤(イオン成分)の洗浄性 低スタンドオフ部の残留性検証4.JPG 活性剤(イオン成分)の洗浄性 低スタンドオフ部の残留性検証6.JPG
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ゼストロンはドイツ本社を拠点に世界8拠点を展開する、グローバル基準の『フラックス洗浄剤メーカー』です。 弊社洗浄剤は、高い洗浄性を持ちながらも、有機溶剤・VOCの削減、また使用量低減によるコスト削減を可能とする、 洗浄性と安全性を両立した地球環境に優しい水系洗浄剤を主力としています。 神奈川のテクニカルセンターでは、インライン・バッチ式のスプレー洗浄装置 や噴流、超音波装置の中からお客様のご希望に沿った装置をお選びいただき、 生産現場と同等条件のもとワーク洗浄をお試し頂けます。 また、洗浄テストと並行しながら分析センターにて清浄度を分析いたします。 デジタル顕微鏡、FT-IR、イオンクロマトグラフィー、SEM-EDX/EDSなどを駆使し 外観のみでは見逃しやすいフラックス残渣の検知も可能です。 テスト終了後には、推奨プロセスなどの詳細を記載したテクニカルレポートを、エンジニアより提出させて頂きます。 ※弊社は洗浄工程の問題に対するサポート対応を基本的には無償で行っております。  フラックス洗浄に関するご要望・課題がございましたら、ぜひお問い合わせ下さい。

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