高性能制御基板のフラックス洗浄について！洗浄ノウハウをご紹介
高性能制御基板のフラックス洗浄において、有機溶剤系洗浄剤×噴流方式を 採用していました。 この方法で基板の露出表面は洗浄できていましたが、スタンドオフが20μmを 下回っている部品下部を完全に洗浄できず、必要となる性能が 発揮されないという不良が発生していました。 本ページでは、この課題を解決した方法についてご紹介します。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 ※PDF資料は先端電子部品の洗浄技術について解説した技術資料です。
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企業情報
ゼストロンはドイツ本社を拠点に世界8拠点を展開する、グローバル基準の『フラックス洗浄剤メーカー』です。 弊社洗浄剤は、高い洗浄性を持ちながらも、有機溶剤・VOCの削減、また使用量低減によるコスト削減を可能とする、 洗浄性と安全性を両立した地球環境に優しい水系洗浄剤を主力としています。 神奈川のテクニカルセンターでは、インライン・バッチ式のスプレー洗浄装置 や噴流、超音波装置の中からお客様のご希望に沿った装置をお選びいただき、 生産現場と同等条件のもとワーク洗浄をお試し頂けます。 また、洗浄テストと並行しながら分析センターにて清浄度を分析いたします。 デジタル顕微鏡、FT-IR、イオンクロマトグラフィー、SEM-EDX/EDSなどを駆使し 外観のみでは見逃しやすいフラックス残渣の検知も可能です。 テスト終了後には、推奨プロセスなどの詳細を記載したテクニカルレポートを、エンジニアより提出させて頂きます。 ※弊社は洗浄工程の問題に対するサポート対応を基本的には無償で行っております。 フラックス洗浄に関するご要望・課題がございましたら、ぜひお問い合わせ下さい。
