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[HAXPES]硬X線光電子分光法

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最終更新日:2026年04月02日

一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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HAXPESは、XPS(X線光電子分光)の励起光に硬X線を用いた分析手法です。

HX-PES、HXPESとも呼ばれます。 高エネルギーなX線励起により通常のXPSよりも数~約10倍深い、50nm程度までのバルク状態評価、ダメージレスな界面の結合状態評価を行うことができます。 この装置はGaKα線源(9.25keV)を搭載した実験室機のため、試料作製から測定までのタイムラグを短縮可能です。 ・バルク敏感(~50nm程度)な状態評価 ・非破壊での埋もれた界面の結合状態評価 ・深い内殻軌道を用いた評価(XPSで重畳するオージェピークの回避、分裂のない1s軌道を用いた解析) GCIB(Gas Cluster Ion Beam)によるスパッタを併用した測定や角度分解測定、Al線源(1.49keV)、中和銃、大気非暴露測定などのオプションも備えています。 ・GCIBによるダメージレスなスパッタクリーニング※デプスプロファイルは原則不可 ・Al線源や角度分解測定を用いた結合状態の深さ方向比較 ・大気非暴露下での評価

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[HAXPES]硬X線光電子分光法

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・リチウムイオン電池Si系負極材、正極金属酸化物のバルク状態評価 ・ゲート絶縁膜、キャパシタ材料の界面状態評価 ・金属腐食表面の深さ方向状態変化 ・コアシェル型ナノ粒子の結合状態評価 ・有機物のバルク状態評価

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MSTは、高度な受託分析サービスを提供する財団法人です。 最先端の「物理的解析」と、AI技術を活用した「高度なデータ解析」を融合させることで、従来の分析の枠を超えた多角的な視点を提供し、お客様の高度なニーズに迅速かつ的確にお応えします。 技術知識を兼ね備えた専門スタッフが、お客様の課題に寄り添い、最適な分析プランをオーダーメイドでご提案いたします。オンラインでの打ち合わせはもちろん、貴社への訪問による対面でのご相談も承っております。 また、ISO9001(品質)およびISO27001(情報セキュリティ)を取得しており、機密性の高いプロジェクトにおいても、確かな技術力と厳格な管理体制のもと、安心してお任せいただける環境を整えています。製品開発の加速から不良原因の究明、特許調査まで、研究開発のあらゆるフェーズにおける課題を、確かな分析技術で解決へと導きます。

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