半導体デバイスなどのプロセス開発や不良解析への迅速なフィードバックを行うことが可能！
二次イオン質量分析(SIMS)は、全元素に対して高感度かつ高質量分解能測定での 深さ方向分析が可能です。 さらに当社では、試料導入から分析までの自動化機能を加え、高精度な自動測定が 可能になりました。 それによって、短期間で回答が求められる半導体デバイスなどのプロセス開発や 不良解析への迅速なフィードバックを行うことができます。 【特長】 ■高感度測定：Ag、In、Sbなどの重元素の高感度測定が可能 ■高質量分解能測定 ・M/△M＝～10,000 ・SiやSiO2中のP、Al、Fe、Niなどの汚染量評価が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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【その他の特長】 ■高い繰り返し精度での自動測定 ・試料入れ替え不要のため、短期間での対応が可能 ・全自動ストレージチャンバー搭載：自動化された試料搬送系 ・測定可能試料数：最大24個(連続測定) ・格納式Cs＋銃：Cs＋/O2＋銃の自動切り替えにより、多様な分析に対応可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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当社は、受託分析サービスを展開している会社です。 2002年8月の創立以来、信頼性のある分析・解析技術と最新鋭の設備を駆使し、 半導体・液晶・金属・新素材を中核とした幅広いマーケットに最適な ナノレベルの微細加工、分析、解析、信頼性評価、環境安全化学分析、 サービス・ソリューションを提供しております。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。