光電子のエネルギーおよび強度を測定することにより、原子の同定・定量が可能！
「X線光電子分光(XPS)」は、数nmレベルの極表面の組成分析が行える 表面分析手法です。 材料を構成する各元素の電子状態(化学結合・価数・混成・電子相関)も 評価可能であり、中和銃を用いることで絶縁物表面も測定可能であるため、 種々の材料表面の解析に広く利用されています。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問合せください。 【特長】 ■数nmの最表面の組成分析(Li～)が可能 ■感度は、0.1atomic％程度 ■電子状態分析(化学結合・価数・ギャップなど)が可能 ■絶縁物・有機物の測定が可能(非破壊分析) ■測定領域は、数十～数百µmφ ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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【用途】 ■極薄膜・最表面の評価(組成・不純物・汚染・状態) ■変色原因調査(汚染・変質・表面酸化) ■接合・接着不良の原因調査(表面汚染・変質・拡散) ■界面状態(深さ方向分析) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社は、受託分析サービスを展開している会社です。 2002年8月の創立以来、信頼性のある分析・解析技術と最新鋭の設備を駆使し、 半導体・液晶・金属・新素材を中核とした幅広いマーケットに最適な ナノレベルの微細加工、分析、解析、信頼性評価、環境安全化学分析、 サービス・ソリューションを提供しております。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
![[HAXPES]硬X線光電子分光法](https://image.mono.ipros.com/public/product/image/e31/2001512026/IPROS13284235485210605376.jpg?w=280&h=280)
