ろ過精度0.3um(95%)
『排ガス処理ユニット』は、半導体プロセスで発生する排ガス問題を解決する最適なソリューションです。 当社の排ガス処理ユニットは、VCD装置やエッチング装置などの半導体製造装置から発生する有害ガスを効率的に処理し、ドライ真空ポンプへの負荷を軽減します。 その結果、メンテナンス頻度の低減とコスト削減を実現し、設備の安定稼働と生産効率の向上に貢献いたします。
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基本情報
対応可能なガスの種類 ・ 不活性ガス(Inert Gas):He、SF₆、CO₂、CF₄、C₂F₆、C₄H₈、CH₃F など。 ・ 可燃性ガス(Flammable Gas):SiH₄、Si₂H₆、B₂H₆、PH₃、SiH₂Cl₂、CH₃、C₂H₂、CO など。
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納期
用途/実績例
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