先端メモリ・ロジック・パワー半導体用の急速熱処理装置（RTP）
当社で取り扱う、Global ZEUS製の半導体用高速熱処理システム『RHP200(XL)Series』 についてご紹介いたします。 RHP200シリーズには、特許技術を用いたランプ配置とウェハローテーションシステムを 搭載しています。これらの機能より均一で迅速な加熱と正確な熱制御が可能で、 均一性1%（RTO 0.53%, Rs 0.29%, 1 σ）の高精度を実現しています。 RHP200XLシリーズに搭載されているリニアヒーターは ウェハの負荷を最小限にする両面加熱機構です。上方向からのガス噴射と回転機構に加え、 ランプリフレクターにより均一の加熱が可能です。これにより他社製品に比べて高精度な均一性を実現しています。 また、部品交換により6インチ、8インチウェハの兼用が可能です。 【特長】 ■制御温度範囲：350℃－1200℃ ■加熱精度：±1℃ ■ウェハ回転加熱方式 ■面内均一性(Uniformity)：1％未満 ■RTA・RTO・RTN・シリサイド化等様々なプロセスに対応 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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【その他の特長】 ■部品交換により6インチ、8インチウェハの兼用可能 ■2チャンバーにすることでスループット向上可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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