半導体製造における吸着剤や、フィルター技術に知見があります！
当社は、半導体材料製造における吸着剤およびフィルター技術に知見があります。 また、ICP-MS（誘導結合プラズマ質量分析計）および液中パーティクルカウンターを自社で保有し、 製品中の金属濃度をppbレベル、粒径100nm程度までのパーティクル数を管理することが可能です。
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基本情報
＜低メタル化＞ 最大処理量：15L ※スケールアップ検討中 定量下限：200ppt（PGMEA）金属種類 Li,Na,Mg,Al,K,Ca,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Zn,Sr Pd,Sn,Ba,Pb,Ti 金属低減方法：吸着剤、フィルター ＜低パーティクル化＞ 最大処理量：18L ※スケールアップ検討中 パーティクル低減方法：PGMEA (4L) の循環ろ過において、粒径70nm以上のパーティクルが、10時間で4687個/mLから0.3個/mLまで低減
価格帯
納期
用途／実績例
低メタル化実績：金属濃度2000ppbの液を50ppbまで低減 低パーティクル化実績：PGMEA (4L) の循環ろ過において、粒径70nm以上のパーティクルが、10時間で4687個/mLから0.3個/mLまで低減
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企業情報
福井キヤノンマテリアル株式会社は、化学技術を通して、お客様の日常を 快適にすることを目指し、優れた技術で人と人、人と化学のより良い関係を築いてまいります。 「共生」の理念のもとに、地球環境と企業活動の調和を図りながら、顧客・社員ならびに地域社会の期待に応えられるように努め、お客様のニーズに応える製品を革新的な技術や発想から創造し、永続的な発展を目指します。