クロム(Cr)ターゲット 純度≧3N8
■純度：2N5～3N8 ■製造法：HIP ■高硬度 ■耐摩耗性強い ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
■HIP製造法により高密度 実際密度7.12まｄ可能 ■四周C0.2～C0.4 ■内部欠陥なし ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
【主な用途】 ■半導体・マイクロエレクトロニクス業界 ■太陽光発電業界 ■装飾・保護コーティング ■自動車部品 ■建築とインテリア ■工業用耐摩耗コーティング ■光学と表示技術 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて 世界トップレベルの技術をもつ日系中国現地法人工場を長年の経験を持つエンジニアを共に 継承した蘇州テクノテック光電材料有限公司と緊密な協力関係を築いております。 この連携により高品質でコストに優れた製品・サービスとともに お客様ニーズを的確に捉え、最適で最高レベルの製品・サービスをご提供します。 当社はお客様事業の発展を第一に考え、創造性と技術力を最大限に活かしお客様へ新たな価値をご提供していきます。
