マイクロエレクトロニクス部品の製造に不可欠なRFスパッタリングプロセスで使用可能な酸化バナジウム材料！
■純度>99.9％ ■密度（4.26 g/cm³） ■用途 マイクロエレクトロニクス部品の製造に不可欠なRFスパッタリングプロセスで使用。 高精細ディスプレイや光学装置用の薄膜成膜に用いられ，光学コーティングやセンサー技術など、優れた材料品質が求められる分野で使用され、 硫酸製造工程における二酸化硫黄の酸化触媒や、その他の有機酸製造用触媒として利用。 太陽電池の性能と効率を向上させるために利用 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
■製造方法：真空焼結、HP法 ■製品実際密度≧85% ■毒性がある物質なので、取扱ご注意 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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用途／実績例
【主な用途】 マイクロエレクトロニクス部品の製造に不可欠なRFスパッタリングプロセスで使用。 高精細ディスプレイや光学装置用の薄膜成膜に用いられ，光学コーティングやセンサー技術など、優れた材料品質が求められる分野で使用され、 硫酸製造工程における二酸化硫黄の酸化触媒や、その他の有機酸製造用触媒として利用。 太陽電池の性能と効率を向上させるために利用
企業情報
当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて 世界トップレベルの技術をもつ日系中国現地法人工場を長年の経験を持つエンジニアを共に 継承した蘇州テクノテック光電材料有限公司と緊密な協力関係を築いております。 この連携により高品質でコストに優れた製品・サービスとともに お客様ニーズを的確に捉え、最適で最高レベルの製品・サービスをご提供します。 当社はお客様事業の発展を第一に考え、創造性と技術力を最大限に活かしお客様へ新たな価値をご提供していきます。