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最終更新日:2025年12月05日

株式会社ダルトン
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用途に合わせたオゾン水生成装置を基板洗浄装置に組み込んだカスタム提案が可能です

<特長> 〇循環方式採用 ・溜まり水・捨て水が極めて少ない ・濃度の立ち上がりが早い (1分でオゾン水を生成) ・洗浄プロセスでのオゾン水濃度・流量が安定 〇メタルフリーオゾン水 ・独自技術により精密洗浄に適したオゾン水を生成 〇幅広い用途に対応 ・濃度1~100ppm, 流量1~50L/min の幅広い適応 ・発生器、混合器の個別利用可能

    その他半導体製造装置
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オゾン水生成装置

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<用途> ・レジスト残渣除去 ・表面保護酸化膜 ・有機物除去 ・金属不純物除去 ・有機膜エッチング ・微粒子除去  ・配管洗浄 ・殺菌

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多岐にわたる分野で、創造という挑戦を続けるお客様と、歩みを重ねて− 施設機器事業、機械装置事業を両輪とするダルトングループの力は、創造活動に情熱を抱く お客様のパートナーとしての役割を担うことで、はじめて発揮されます。 際立つ個性と知を携えたグループ各社と共に、歴史と信頼を築いてきたサプライヤーと共に、 そして、価値創造の主人公であるお客様と共に。 −創造の、共創へ。− 私たちダルトングループは、おのおのの知と技術を結集し、 お客様のあらゆる創造活動と融合することで、革新的な価値を共に創造し、 豊かな社会と輝ける未来に貢献します。

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