高効率でOHラジカルを生成。コンパクト設計で省スペースに設置可能。水銀レスで深紫外LEDを搭載
当社が提供する「ラジカル洗浄ユニット」は、独自の深紫外LED発光体を採用し、 オゾン水などの洗浄液からOHラジカルを効率良く生成できるコンパクトな製品です。 UV-C照射によるオゾン水分解技術により、高純度洗浄を求める微細加工工程において、 有機汚染物やフォトレジスト残渣の除去、金属汚染の抑制などに貢献します。 接液部は合成石英で構成されており、クロスコンタミを防止。 水銀を使用しないLED仕様で、長期間にわたり安定運用が可能です。 デモ機も用意しておりますので、ご希望の方はお気軽にご連絡ください。 【特長】 ■コンパクトサイズで省スペースに設置 ■リニアな発光制御が可能 ■環境負荷を抑えつつ高効率な洗浄が可能 ■半導体製造、医療機器、食品加工など応用分野が広い ■ユニット内部の分割制御により、劣化時のフィードバック設定が可能 ■フォトマスクなど金属膜酸化防止プロセスに適応 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
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【特長】 SPMレスなフォトレジスト除去プロセスを探している 有機・金属汚染を抑えながら洗浄効率を上げたい 低環境負荷の洗浄ソリューションを検討している 金属膜酸化防止プロセスに適応 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
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企業情報
当社は、半導体業界、フォトマスク業界、ディスク業界及びレンズ業界に対し、 お客様の用途、製造ライン等に対応した各種装置の開発・設計・製造及び販売 などを行っている会社です。 顧客仕様に基づくカスタマイズ生産に特化し、設計、開発、組立て、検査、 据付、保守に至るまで製品のライフサイクルをトータルにサポート。 すべての工程で顧客と密接な関係を構築することで直接、顧客の考える問題点や 技術トレンドを感じ取り、それに応じた開発にいち早く着手しています。
