タングステン(W)ターゲット 純度≧5N
ディスプレイ業界では、薄膜形成技術が製品の性能と品質を左右する重要な要素です。特に、ディスプレイの表示性能を向上させるためには、均一で高品質な薄膜の形成が不可欠です。不適切なターゲット材の使用は、薄膜の品質を低下させ、ディスプレイの輝度やコントラストに悪影響を及ぼす可能性があります。当社のタングステン(W)ターゲットは、高純度で均一な薄膜形成を可能にし、ディスプレイの高性能化に貢献します。 【活用シーン】 ・ディスプレイ製造における薄膜形成 ・高精細ディスプレイ、有機ELディスプレイ、液晶ディスプレイ ・スパッタリングによる薄膜形成 【導入の効果】 ・高品質な薄膜形成によるディスプレイ性能向上 ・均一な膜厚と高い密着性 ・歩留まり向上とコスト削減
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基本情報
【特長】 ・高純度半導体用Wターゲット ・粉末冶金法で製造 ・W合金も多種類出荷 ・高純度：3N5～5N ・表面粗さ≦Ra1.6a 【当社の強み】 当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて世界トップレベルの技術をもつ日系中国現地法人工場と緊密な協力関係を築いております。この連携により高品質でコストに優れた製品・サービスを提供し、お客様ニーズを的確に捉え、最適で最高レベルの製品・サービスをご提供します。
価格帯
納期
用途／実績例
【主な用途】 ■半導体とマイクロエレクトロン ■表示パネル(OLED/LCD) ■航空宇宙・原子力産業 ■耐摩耗性と保護コーティング ■新エネルギー ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて 世界トップレベルの技術をもつ日系中国現地法人工場を長年の経験を持つエンジニアを共に 継承した蘇州テクノテック光電材料有限公司と緊密な協力関係を築いております。 この連携により高品質でコストに優れた製品・サービスとともに お客様ニーズを的確に捉え、最適で最高レベルの製品・サービスをご提供します。 当社はお客様事業の発展を第一に考え、創造性と技術力を最大限に活かしお客様へ新たな価値をご提供していきます。
