純度≧3N5、Hf≦0.2wt%のジルコニウム(Zr)ターゲットを出荷中
エレクトロニクス業界のスパッタ用途では、高品質な薄膜形成が求められます。特に、半導体デバイスや電子部品の製造においては、ターゲット材の純度や均一性が製品の性能を左右します。ジルコニウム(Zr)ターゲットは、耐食性や耐熱性に優れ、様々な電子部品の製造に利用されています。当社のジルコニウム(Zr)ターゲットは、高品質な薄膜形成を可能にし、お客様の製品の信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造 ・電子部品製造 ・薄膜形成 【導入の効果】 ・高品質な薄膜形成 ・製品の信頼性向上 ・スパッタリング効率の向上
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基本情報
【特長】 ・純度≧3N5 ・Hf≦0.2wt% (＜500ppm可能) ・O≦200ppm ・H≦3.5ppm ・N≦5ppm ・そり≦0.1mm 【当社の強み】 当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて世界トップレベルの技術を持つ日系中国現地法人工場と緊密な協力関係を築いております。この連携により高品質でコストに優れた製品・サービスを提供し、お客様の事業発展を支援します。
価格帯
納期
用途／実績例
【主な用途】 ■半導体とマイクロエレクトロニクス業界 ■原子力産業 ■航空宇宙と高温コーティング ■医療設備 ■光学と光電の分野 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて 世界トップレベルの技術をもつ日系中国現地法人工場を長年の経験を持つエンジニアを共に 継承した蘇州テクノテック光電材料有限公司と緊密な協力関係を築いております。 この連携により高品質でコストに優れた製品・サービスとともに お客様ニーズを的確に捉え、最適で最高レベルの製品・サービスをご提供します。 当社はお客様事業の発展を第一に考え、創造性と技術力を最大限に活かしお客様へ新たな価値をご提供していきます。
